Makeup Revolution Cut Crease Canvas Eyeshadow Base - Etch Deep Osnova za temeljni premaz na oči 4,5 ml

Makeup Revolution Cut Crease Canvas Eyeshadow Base - Etch Deep podlaga za senčila 4,5 ml

Makeup Revolution Cut Crease Canvas Eyeshadow Base - Etch Deep je revolucionarna podlaga za senčila, ki zagotavlja popolno osnovo za vaše senčila. Ta podlaga je del kolekcije Cut Crease Canvas priznane znamke Makeup Revolution, znane po svojih inovativnih izdelkih na področju dekorativne kozmetike. S to podlago boste dosegli natančen in dolgotrajen videz, ki je idealen za večerne dogodke ali posebne priložnosti.

Ta podlaga je zasnovana tako, da izenači ten kože in zagotovi gladko površino za nanos senčil. Njena kremna tekstura se enostavno razmaže in poskrbi, da vaša senčila ostanejo na mestu ves dan. Zahvaljujoč svojemu globokemu odtenku Etch Deep je idealna za ustvarjanje dramatičnega in izrazitega videza, ki pritegne pozornost na prvi pogled. Ta podlaga je popolna izbira za ženske, ki želijo poudariti svoje oči in jim dodati intenzivnost.

Aktivne sestavine

• Glicerin - Vlaži in mehča kožo.
• Mika - Dodaja koži nežen sijaj in bleščavost.

Učinki

• Izenačitev - Izenači ten kože in jo pripravi na nanos senčil.
• Dolgotrajen učinek - Ohranja senčila na mestu ves dan.

Primerno za

Ta podlaga je idealna za normalen tip kože. Primerna je za ženske, ki iščejo način, kako poudariti svoje oči in doseči natančen videz.

Uporaba

Nanesite majhno količino podlage na veko s pomočjo aplikatorja. Nežno razmažite s prsti ali čopičem, dokler ne ustvarite gladke površine. Nato nanesite svoja priljubljena senčila.